Anodisieren Typ II - DOTIZE®

Durch das von DOT entwickelte Anodisierungsverfahren (DOTIZE®) wird der auf dem Implantat befindliche dünne natürliche Oxidfilm in einem elektrolytischen Bad durch eine dicke Oxidschicht ersetzt. Dabei werden Mikroporen und Risse im Grundmaterial abgeschwächt. Das DOTIZE®-Verfahren entspricht dem Standard AMS (Aerospace Material Specification) 2488.

Eigenschaften:
Farbe: dunkelgrau bis anthrazit
Schichtdicke: 1–2 µm
Schichthärte: Steigerung um ~25 %
Gehärtete Titanoberfläche
Gute Biokompatibilität
Reduzierte Neigung zur Kaltverschweißung zwischen Komponenten aus Titan